ここでは、ドライ真空ポンプを扱っている樫山工業について、製品例や特徴をまとめています。
スクリュー型・SDEシリーズ
排気速度 | 1,300~100,000L/min |
到達圧力 | 1.3~0.5Pa |
騒音値 | 記載なし |
多段ルーツ型・NeoDry Eシリーズ
排気速度 | 110~5,000L/min |
到達圧力 | 5.0~0.3Pa |
騒音値 | ≦56~≦72dB(A) |
半導体や液晶の製造分野での用途
プラズマなどからの耐プロセス性能に優れる樫山工業のドライ真空ポンプは、半導体や液晶分野を得意としており、「プラズマクリーナ」としてなどの用途で、広く使用されています。プラズマクリーナは、ガスプラズマのエッチング効果を利用して、半導体や液晶など、洗浄対象物の表面をクリーニングするシステムです。
現代の幅広い分野での用途
樫山工業のドライ真空ポンプは、耐プロセス、大排気量、省エネに、優れた性能をもっています。そのため、研究機関、医療機関など、現代の幅広い分野から引き合いがあります。
その用途を挙げると、たとえば、「電子顕微鏡」、「加速器」、「質量分析器」、「遠心分離機」、「凍結乾燥」、「エバポレータ」、「ターボ分子ポンプのバックポンプ」、「水蒸気排気」、「溶剤排気」、「ヘリウム排気」などがあります。
乾燥・包装・成型・搬送など
そのほか、通常の真空ポンプの用途にも対応しています。
対応している用途には、真空乾燥、電極乾燥、真空脱泡などの「乾燥」や「脱泡」、真空包装、真空充填などの「包装」、真空成型、吸着搬送などの「成型」や「搬送」などがあり、そのほか、「蒸着」、「ガス置換」などにも対応しています。
接ガス部だけでなく、各部にギアオイルなども使用していないスクロール型のドライ真空ポンプなら、
使用環境、使用用途などが制限されにくく、さらにメンテナンスの頻度が少なくて済むなどのメリットがあります。
耐プロセスのドライ真空ポンプに力を入れている
樫山工業は、真空技術の分野では、特にドライ真空ポンプに力を入れており、ドライ真空ポンプのラインナップが豊富にそろっています。
酸やアルカリ、プラズマなどが存在するような厳しい環境にも耐えられる、耐プロセス仕様を得意としています。溶剤が含まれるような排気でも対応できるかなど、相談にも応じてくれます。
半導体製造プロセスでの評価が高い
半導体製造など、クリーンな環境が必要とされる分野に、ドライ真空ポンプを提供しています。ドライ真空ポンプは、潤滑オイルを使わないため、排気にオイルが含まれず、クリーンな環境を保つことができます。
1946年創業の樫山工業は、長年の経験と、流体の研究・技術をもとにした真空技術で、半導体業界から高い評価を得ています。
研究機関への納入が多い
よりクリーンな環境を必要とする、素粒子物理学などの実験を行う加速器施設や、大学・研究機関からの引き合いも多くなっています。
特に新型機種である「NeoDry100E」は、研究機関への納入実績が多くなっています。
東京大学、京都大学などの国立大学をはじめ、J-PARC、SACLAなどの加速器施設、高エネルギー加速器研究機構、産業技術総合研究所などの研究機関への納入実績があります。
社名 | 樫山工業株式会社 |
所在地 | 長野県佐久市根々井1-1 |